谁能提供一些感应耦合等离子体刻蚀中上下·射频的工作原理。最好也能告诉下我MATCHING BOX的作用。

谁能提供一些感应耦合等离子体刻蚀中上下·射频的工作原理。最好也能告诉下我MATCHING BOX的作用。 有的发下邮箱吧[email protected]谢谢;
能再详细点不?

射频的工作原理:发射一定的高频无线电波作用于探头上,以此分析和确定容器内物位的变化。射频导纳开关对所探材料的不同,无线电波的频率也随之改变。射频导纳开关的探头和容器壁构成了一个间距固定的电容两级,探头的绝缘材料和周围的空气提供绝缘介质。空气被其它介质所取代时,探头与容器壁所构成的电容量将改变,这一变化将引起作用于射频导纳开关探头的无线电波的变化。这一变化被射频导纳开关内部线路检测到,与设置值比较,确定其改变量。当与设置值相同时,输出开关量信号。
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第1个回答  2011-01-01
我是做等离子用的电源与match的,ICP (感应耦合等离子体刻蚀)我也调试过,上面的一般是个线圈绕在陶瓷或玻璃的缸体上,主要作用是增强等离子浓度,使等离子有足够的能量,下面的是两个极板也是产生等离子用,普通刻蚀机就是两极板方式,但效果不是很好,刻的深度不够,所以要用加强型,matching box是用来让电源能把射频功率最大限度传输给等离子体,里面涉及到复杂的电路模型,这我就不解释了。
第2个回答  2010-12-22
我可以概括的告诉你,不知道能不能满足你的要求:
ICP plasam 中上射频TRF的作用的产生等离子体,下射频BRF的作用是控制plasma中带电粒子的运动方向。matching box 的作用是进行射频匹配,为了将电源产生能量最大限度的耦合到plasma中。详细的就很难说了,一句话半句话也说不清楚的。
第3个回答  2010-12-22
MATCHING BOX是阻抗匹配箱, 用于射频电源和等离子体之间的阻抗匹配,以减小反射
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