真空蒸镀与真空溅镀，离子镀之间的区别是什么

Question

请问真空蒸镀与真空溅镀，真空离子镀，磁控镀之间的区别在那里？真空蒸镀是使用真空炉里的W丝加热铝或其他靶材，离子镀呢？磁控镀设备，为什么能镀出幻彩出来？之间的具体原理是什么？谢谢！！

Answer 1

主要是原理的区别。
蒸发镀膜工作原理是将膜材置于真空镀膜室内，通过蒸发源加热使其蒸发，当蒸发分子的平均自由程大于真空镀膜室的线性尺寸，蒸汽的原子和分子从蒸发源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的冲击与阻碍，可直接到达被镀的基片表面，由于基片温度较低，便凝结其上而成膜。
磁控溅射镀膜是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片，Ar正离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜。
离子镀的工作原理是：蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生弧光放电。在电场作用下真空罩内的部分氩气被电离，在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到充分清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同氩离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。

Answer 2

溅镀不会挑选基材,但是蒸镀只有选择金属才有好的效果

Answer 3

问的问题太大，都是把材料变成分子或原子，然后附着到基材上。