对涂层厚度的检测将有利于有效控制薄膜各层的厚度均匀性，但对于多层薄膜若想精确测量每一涂层的厚度，在相应的厚度检测设备上就需要有非常大的投资，并随着薄膜层数的增长而加大，给企业带来较大的经济负担。比较经济的方式是对部分价格昂贵的涂层材料进行涂层厚度的检测，同时加强对薄膜整体厚度的测试以达到有效控制其他各层材料厚度均匀性的作用。
对于薄膜厚度测量，深圳大成精密一直持续加大研发投入和不断致力于技术创新。大成精密光学干涉测厚仪专为透明薄膜开发的光学干涉测厚仪能够良好地实现单层或多层透明薄膜的厚度测量。精度极其高，应用甚广，尤其适合厚度要求达到纳米级的透明多层物体的厚度测量。
对于薄膜厚度测量，深圳大成精密一直持续加大研发投入和不断致力于技术创新。大成精密光学干涉测厚仪专为透明薄膜开发的光学干涉测厚仪能够良好地实现单层或多层透明薄膜的厚度测量。精度极其高，应用甚广，尤其适合厚度要求达到纳米级的透明多层物体的厚度测量。
温馨提示：答案为网友推荐，仅供参考
第1个回答 2018-08-07
生活中常见的可用螺旋测微器，也叫千分尺，可以测到0.01毫米，可以满足测塑料薄膜厚度的需要，且价格便宜。可以将十张薄膜叠起来一起测量，测得厚度除以十，结果更精确。
第2个回答 2018-08-07
根据国标中的要求，对同一张薄膜选取10个测试点。
1、将两个激光传感器分装在薄膜试样的上下方，把传感器固定在支架上。
2、打开仪器，设置参数，放置对比量块，点击“确认”。
3、取走滑块，重新设置与步骤（2）相同的参数，放入薄膜试样。
4、分别取10个不同的点，位置尽量错开，避免因距离太近影响数据。
5、测量值通过串口传输到计算机，再通过在计算机上的测厚软件进行处理，得到目标的厚度值。本回答被网友采纳
1、将两个激光传感器分装在薄膜试样的上下方，把传感器固定在支架上。
2、打开仪器，设置参数，放置对比量块，点击“确认”。
3、取走滑块，重新设置与步骤（2）相同的参数，放入薄膜试样。
4、分别取10个不同的点，位置尽量错开，避免因距离太近影响数据。
5、测量值通过串口传输到计算机，再通过在计算机上的测厚软件进行处理，得到目标的厚度值。本回答被网友采纳
第3个回答 2018-08-20
高精度的涂层测厚仪可以测，但是薄膜不能太软，不然压变形。
这款是中科朴道的PD-CT2
第4个回答 2020-03-22
光学薄膜测厚仪 (SpectraThick Series) 的核心技术介绍和原理说明
SpectraThick series的特点是非接触, 非破坏方式测量，无需样品的前处理，软件支持Windows操作系统等。ST series是使用可视光测量wafer，glass等substrates上形成的氧化膜，氮化膜，Photo-resist等非金属薄膜厚度的仪器。
测量原理如下：在测量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可视光，这时光的一部分在膜的表面反射，另一部分透进薄膜，然后在膜与底层 (wafer或glass)之间的界面反射。这时薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光产生干涉现象。SpectraThick series就是利用这种干涉现象来测量薄膜厚度的仪器。
仪器的光源使用Tungsten
Lamp，波长范围是400 nm ~ 800 nm。从ST2000到ST7000使用这种原理，测量面积的直径大小是4μm ~ 40μm (2μm ~ 20μm optional)。ST8000-Map作为K-MAC (株) 最主要的产品之一，有image processs功能，是超越一般薄膜厚度测量仪器极限的新概念上的厚度测量仪器。测量面积的最小直径为0.2μm，远超过一般厚度测量仪器的测量极限 (4μm)。顺次测量数十个点才能得到的厚度地图 (Thickness Map) 也可一次测量得到，使速度和精确度都大大提高。这一技术已经申请专利。
韩国K-MAC (株)
SpectraThick series的又一优点是一般仪器无法测量的粗糙表面 (例如铁板，铜板) 上形成的薄膜厚度也可以测量。这是称为VisualThick OS的新概念上的测量原理。除测量薄膜厚度外还有测量透射率，玻璃上形成的ITO薄膜的表面电阻，接触角度 (Contact Angle) 等的功能，目前国内外知名的半导体行业及光刻胶等相关行业的很多企业都选择K-MAC膜厚仪，广州市金都恩科精密仪器有限公司是中国区总代理，进入企业网站可以详细了解。
产品说明
本仪器是把UV-Vis光照在测量对象上，利用从测量对象中反射出来的光线测量膜的厚度的产品。
这种产品主要用于研究开发或生产导电体薄膜现场，特别在半导体及有关Display工作中作为
In-Line monitoring 仪器使用。
产品特性
1) 因为是利用光的方式，所以是非接触式，非破坏式，不会影响实验样品。
2) 可获得薄膜的厚度和 n,k 数据。
3) 测量迅速正确，且不必为测量而破坏或加工实验样品。
4) 可测量 3层以内的多层膜。
5) 根据用途可自由选择手动型或自动型。
6) 产品款式多样，而且也可以根据顾客的要求设计产品。
7)可测量 Wafer/LCD 上的膜厚度 (Stage
size 3“ )
8)Table Top型, 适用于大学,研究室等
SpectraThick series的特点是非接触, 非破坏方式测量，无需样品的前处理，软件支持Windows操作系统等。ST series是使用可视光测量wafer，glass等substrates上形成的氧化膜，氮化膜，Photo-resist等非金属薄膜厚度的仪器。
测量原理如下：在测量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可视光，这时光的一部分在膜的表面反射，另一部分透进薄膜，然后在膜与底层 (wafer或glass)之间的界面反射。这时薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光产生干涉现象。SpectraThick series就是利用这种干涉现象来测量薄膜厚度的仪器。
仪器的光源使用Tungsten
Lamp，波长范围是400 nm ~ 800 nm。从ST2000到ST7000使用这种原理，测量面积的直径大小是4μm ~ 40μm (2μm ~ 20μm optional)。ST8000-Map作为K-MAC (株) 最主要的产品之一，有image processs功能，是超越一般薄膜厚度测量仪器极限的新概念上的厚度测量仪器。测量面积的最小直径为0.2μm，远超过一般厚度测量仪器的测量极限 (4μm)。顺次测量数十个点才能得到的厚度地图 (Thickness Map) 也可一次测量得到，使速度和精确度都大大提高。这一技术已经申请专利。
韩国K-MAC (株)
SpectraThick series的又一优点是一般仪器无法测量的粗糙表面 (例如铁板，铜板) 上形成的薄膜厚度也可以测量。这是称为VisualThick OS的新概念上的测量原理。除测量薄膜厚度外还有测量透射率，玻璃上形成的ITO薄膜的表面电阻，接触角度 (Contact Angle) 等的功能，目前国内外知名的半导体行业及光刻胶等相关行业的很多企业都选择K-MAC膜厚仪，广州市金都恩科精密仪器有限公司是中国区总代理，进入企业网站可以详细了解。
产品说明
本仪器是把UV-Vis光照在测量对象上，利用从测量对象中反射出来的光线测量膜的厚度的产品。
这种产品主要用于研究开发或生产导电体薄膜现场，特别在半导体及有关Display工作中作为
In-Line monitoring 仪器使用。
产品特性
1) 因为是利用光的方式，所以是非接触式，非破坏式，不会影响实验样品。
2) 可获得薄膜的厚度和 n,k 数据。
3) 测量迅速正确，且不必为测量而破坏或加工实验样品。
4) 可测量 3层以内的多层膜。
5) 根据用途可自由选择手动型或自动型。
6) 产品款式多样，而且也可以根据顾客的要求设计产品。
7)可测量 Wafer/LCD 上的膜厚度 (Stage
size 3“ )
8)Table Top型, 适用于大学,研究室等
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