PVD(Physical Vapor Deposition):物理气相沉积，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
一般用来表面改性或镀涂层。
包括真空蒸镀、离子溅射、离子镀等。
①离子溅射镀膜技术：
离子溅射镀膜技术是在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，通过粒子的动量传递打出靶材中的原子及其他粒子，并使其沉积在基体上形成薄膜的技术。
粒子溅射镀膜可实现大面积快速沉积，镀膜密度高，附着性好。
②应用：
溅射镀膜材料不受限制，凡能制成靶的材料均可以溅射成膜，广泛应用于机械、电子、化学、光学、塑料等行业。
离子溅射MoS2用于轴承解决了轴承的润滑问题，实现了固体自润滑。
化学气相沉积技术是一种化学气相生长法，是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物、单质气体供给基体，借气相作用或在基体表面上的化学反应生成要求的薄膜。
可镀膜层：TiC、TiN、Ti(CN)、Al2O3、ZrO2、TiO2金刚石或类金刚石等。
利用CVD技术可实现钢球或滚子的陶瓷化，在金属球或滚子表面形成陶瓷层，提高滚动体的耐磨性、耐温性、润滑性、耐蚀性等性能。如飞机舱门轴承球。
物理气相沉积(PVD)技术
物理气相沉积技术(PVD)是利用热蒸发、离子溅射或辉光放电等物理过程，在基体表面沉积所需涂层的技术。
物理气相沉积可镀制金属、合金、氧化物、氮化物、碳化物等膜层；膜层附着能力强，工艺温度低，一般无或很少变形。
pdv：abbr. 分组时延偏差（packet delay variation）；通路延迟值（path delay value）；多角体衍生病毒（polyhedra-derived virus）；李矮缩病毒（Prune Dwarf Virus）；血源乙肝疫苗；表现资料值 (present data value)
短语：
PDV ProtocolDataUnit 协议数据单元
PDG PDV 和压差有关
PDV Produktdatenverwaltung 产品数据管理
双语例句：
So, the work for this process is the integral, pdv or minus the integral, V1, V2, p dV.
此过程中的做功等于负的积分，从v1到v2，外部。
In some parasitic wasps, PDV frequently has a synergistic effect with other factors, such asovarian protein, teratocyte and venom.
一些寄生蜂的PDV与其他因子，如卵巢蛋白、畸形细胞或蜂毒等协同发挥作用。
I also want to assume for our present purposes that there's only pressure volume work going on, which is to say I want to put pdV p dV in here minus p dV for dw.
同时假定,对于我们目前的目的而言，只有压强做功这就是说,我要把这里的dw替换为负。
参考资料