不是的,佳能与阿斯麦尔是竞争对手。
日本光学设备制造巨头佳能(Canon)正计划靠提升光刻机的生产效率来抢占市场。按照计划,今年3月份,佳能将时隔7年(自2013年来),面向市场推出新型光刻机“FPA-3030i5a”,这款新品较旧机型的生产效率提升了将近17%。
公开资料显示,目前以日本佳能、尼康(Nikon)、荷兰阿斯麦(ASML)为首的3家制造商占据了全球超过90%的半导体光刻机市场。曾几何时,尼康与佳能是全球光刻机市场的龙头老大,但自从荷兰巨头ASML在EUV技艺拔得头筹后,这两家巨头的研发也停滞不前。
截至目前,在EUV光刻机的生产方面,全球有且仅有ASML能担此重任。不过,考虑到当前自家在全球半导体设备市场也有一定的优势,各大日企也不肯就此将光刻机市场“拱手”让给ASML。据国际半导体产业协会(SEMI)此前发布的数据,2019年日本生产的半导体生产设备全球占比高达31.3%。
据日本经济新闻此前报道,2020会计年度(截至2021年3月底),日本知名半导体零部件制造商东京电子累计耗费了1350亿日元(折合约85亿元人民币)的研发经费,为的就是增加检测与光源等的实力,以尽早提高EUV光刻机相关的设备产能。
佳能此次的“大动作”也不例外。据报道,佳能希望通过推进多种半导体的产品战略,在当前全球物联网技术飞快发展的同时,拿下更多海外订单,从而在全球光刻机市场分得更多蛋糕。
值得一提的是,中国市场正被佳能、尼康等日企视为重振半导体产业“业绩”的重要希望。要知道,我国当前芯片发展受限一个原因就是,美国有意阻挠海外巨头与我国企业的合作。尤其是中芯国际此前自ASML订购的EUV光刻机,到现在还无法对华出口。
为了打破美国的桎梏,我国的企业也在努力寻找转机。2020年10月中旬,日本媒体就爆出一则消息,已经有不少中资企业计划向尼康、佳能两家日本巨头出资,欲联手推进EUV以外的新型光刻机的研发。
按照日媒的分析,虽然当前ASML在全球EUV光刻机“一家独大”,但是若是想拿到极紫外线以外技术的高端光刻机,日本的尼康以及佳能这两家企业也有能力制造。
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