真空镀膜和光学镀膜两者的区别在哪里？

Question

如题所述

Answer 1

镀膜靶材是用物理或化学的方法在靶材表面镀上一层透明的电解质膜,或镀一层金属膜,目的是改变靶材表面的反射和透射特性.而镀膜的方法有真空镀膜和光学镀膜
一、概念的区别

1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法.例如,真空镀铝、真空镀铬等.

2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程.在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求.常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜.

二、原理的区别

1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺.简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法.

2、光的干涉在薄膜光学中广泛应用.光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜,一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率,以满足不同的需要.为了消除光学零件表面的反射损失,提高成像质量,涂镀一层或多层透明介质膜,称为增透膜或减反射膜.

随着激光技术的发展,对膜层的反射率和透过率有不同的要求,促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展.为各种应用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等.光学零件表面镀膜后,光在膜层层上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜层的折射率和厚度,可以得到不同的强度分布,这是干涉镀膜的基本原理.

三、方法和材料的区别

1、真空镀膜的方法材料:

(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜.

(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,便激发辉光放电,带正电的氩离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜.

(3)化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程.

(4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合,兼有两者的工艺特点.表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点.

2、常见的光学镀膜材料

(1)氟化镁:无色四方晶系粉末,纯度高,用其制光学镀膜可提高透过率,不出崩点.

(2)二氧化硅:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好.纯度高,用其制备高质量Si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点.按使用要求分为紫外、红外及可见光用.

(3)氧化锆:白色重质结晶态,具有高的折射率和耐高温性能,化学性质稳定,纯度高,用其制备高质量氧化锆镀膜,不出崩点.

四、膜厚的区别

真空镀膜一般金属材料电镀出来的膜厚度大概是3-5微米.光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可.早期使用的是光控测试,现在一般用晶振片,使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度.不同膜层的厚度不同.

以上内容就是真空镀膜和光学镀膜区别的介绍,希望能帮到大家.真空镀膜的过程很复杂,只是因为都需要高真空度而得名,光学镀膜的镀膜材料都是稀有金属,这些材料随着科技的发展其需求可能会增长.

Answer 2

真空镀膜和光学镀膜都是一种涂层技术，可以为材料表面增加一层特殊的薄膜，从而改变其光学性质、化学性质或物理性质等。但它们在工艺原理和应用领域上有所不同。
真空镀膜是一种通过在真空环境下利用热蒸发、电子轰击、离子溅射等方式将金属或其他材料沉积到基材表面形成一层薄膜的技术。这种涂层通常用于机械部件、电器元件等领域，以提高其化学稳定性、耐磨性、导电性等性能。
而光学镀膜则是一种专门应用于光学器件的涂层技术，主要目的是改善光学性质如透过率、反射率、吸收率和相位等，从而提高光学器件的性能。光学镀膜通常使用多层堆积的金属或者二氧化硅薄膜来实现对光波的控制和调节，从而达到预期的光学性能。其中常见的光学器件包括反射镜、透镜、偏振片、光栅等。
此外，两者在涂层的种类和厚度上也有所不同。真空镀膜主要采用金属、合金、陶瓷等材料进行涂层，通常厚度在几纳米到数百微米之间；而光学镀膜则使用二氧化硅、三氧化二铝等光学材料进行多层堆积，通常厚度控制在纳米量级以内。
虽然真空镀膜和光学镀膜都是涂层技术，但它们的工艺原理、应用领域、涂层种类和厚度等方面存在明显差异。

Answer 3

技术方法：真空镀膜是在真空环境下进行的，这可以减少杂质和气体分子对镀膜过程的影响。而光学镀膜则专注于制造反射、透光或滤光等特定光学效果的薄膜，通常也是在真空中进行，但对材料的选择和工艺控制有更高的要求。

应用领域：真空镀膜的应用非常广泛，可以用于制造电子产品、装饰材料、防腐蚀层等。光学镀膜则主要用于光学器件，比如镜片、望远镜、相机镜头等，关注的是提高这些设备的光学性能。

材料和精度：光学镀膜通常要求更高精度的厚度控制和材料纯度，因为这直接影响到光学性能。而普通的真空镀膜对这些要求可能没有那么严格。

真空镀膜更多关注在材料表面形成覆盖层，应用范围广泛；光学镀膜则专注于提高光学性能，要求更精细的工艺控制。