中国芯片技术的“瓶颈”是什么?

如题所述

第1个回答  2020-08-19
中国芯片技术的瓶颈是什么?中国芯片技术的设计水平也是很高的,在世界上也是黑领先的,但是中国的芯片制造水平实在是太低了,就一个中兴国际,现在只能生产25纳米的设计芯片,而现在国际上已经奔5纳米3纳米去了,所以说中国的芯片技术,呃,差很多也就是中国的光科技技术很落后,这个瓶颈就在这,如果没有光合剂,那么你这个芯片是搞不出来的,所以说中国芯片技术的瓶颈,我认为是光刻机的生产设计水平太弱。
第2个回答  2020-08-19
中国芯片技术的瓶颈,有很多,最主要的就是光刻机。光刻机中国自己还不能够做出来受到西方国家的控制导致中国芯片的级别上不去。精度上不去就造成芯片体积过大集成量不够。但是中国只要投入巨额资金吸引人才迟早也会做出光刻机的。
第3个回答  2020-08-19
主要有三点,一是基础科学的严重滞后,没有很强的技术专利,导致要付高昂的专利费 二是硬件及原材料的缺乏,像是光刻机 ,光刻胶等都被外国所垄断 三是科技人员和研发经费还有所欠缺,这几点是制约我国芯片技术的瓶颈!
第4个回答  2020-08-19
在芯片设计方面,中国进步很快,可以说,已经位列全球第二,仅次于美国,不仅拥有全球数量最多的设计公司,而且水平达到了相当高度,设计出一批优秀产品。比如,连续几年登上世界第一宝座的“神威·太湖之光”超级计算机用的芯片,就是由中国公司自己设计的。再比如,中国公司设计出的手机芯片和服务器芯片已得到应用,并表现出优异的性能。中国在芯片设计领域还存在设计工具方面的“短板”。芯片设计是在电子设计自动化工具(EDA)软件平台上,通过计算机进行逻辑编译、化简、分割、综合、优化、布局、布线和仿真等来完成的,而能提供该软件服务的主要是外国公司。

在芯片制造领域,包括制造工艺和制造装备方面,整体而言,中国能力亟待提高。芯片制造听上去像是传统制造,实际上其制造工艺和装备的精密、繁杂程度远超后者。具体来说,其工艺包括光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长、抛光、金属化、扩散、氧化……与这些制造工艺相对应,制造关键装备多达200多种,其中包括光刻机、刻蚀机、清洗机、切割减薄设备、分选机以及其他工序所需的扩散、氧化、清洗设备等。每种装备的制造技术要求都很高,制造难度极大且造价十分高昂。本回答被网友采纳
第5个回答  2020-08-19
“瓶颈”是中国在芯片技术领域没有核心技术和自主研发能力,没有主导芯片从材料、设计到生产制备的全套技术。起步晚是重要的历史原因,主导理念的偏差导致创新推进不够是现实原因。
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