光学镀膜
光学镀膜原理：光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜，一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。
为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。随着激光技术的发展，对膜层的反射率和透过率有不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。为各种应用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。
扩展资料：
光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃)；而较先进的技术，如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。IAD工艺不但生产比常规镀膜工艺具有更好物理特性的薄膜，而且可以应用于塑料制成的基底。抽真空主系统由两个低温泵组成。电子束蒸发、IAD沉积、光控、加热器控制、抽真空控制和自动过程控制的控制模块都在镀膜机的前面板上。
参考资料来源：百度百科-光学镀膜
温馨提示：答案为网友推荐，仅供参考
第1个回答 2014-08-18
镜头表面有一层物理镀膜，没有加膜的镜片和空气的接触面约有4%左右的光线被反射掉，加膜后光线反射率约为0.4%或更少，所以镜头表面镀膜后光线的利用率将大大地提高，加膜的作用是利用了光的干涉现象。本回答被提问者采纳
相似回答