曝光机的用途

如题所述

第1个回答  2016-05-28

更广范围(UV,DUV,NUV)的紫外光波长选择,出射光强范围: 8mW/cm2~40mW/cm2
支持恒定光强或恒定功率模式
广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领。
常见曝光机举例:MYCRO美国制造的恩科优(N&Q)紫外曝光系统,适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。NXQ400-6系统成功地应用于半导体制造,光电电子,平板,射频微波,衍射光学,微机电系统,凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用。

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