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三氯氢硅怎么生成
三氯氢硅
和水反应吗
答:
SiHCl₃与水反应
生成
二氧化硅、盐酸和氢气。化学方程式为:SiHCl₃ + 2H₂O =SiO₂ +
3
HCl + H₂。SiHCl₃在与水的反应过程中,同时释放出大量的热并产生H₂,当大量的SiHCl₃与水在空气中反应时会剧烈燃烧,甚至有爆炸的危险,除SiHCl3自身的...
三氯氢硅
的危害
答:
在-18℃以下也有着火的危险,遇明火则强烈燃烧,燃烧时发出红色火焰和白色烟。
三氯氢硅
遇水会反应
生成氯
化氢、氢气、二氧化硅,放出大量的热,会造成设备腐蚀和安全隐患。如果在露天下遇水,会引起燃烧起火,燃烧的蒸气能与空气形成浓度范围很宽的爆炸性混合气,受热时引起猛烈的爆炸。
多晶硅生产技术
答:
以四氯化硅、氢气、氯化氢和工业硅为原料在流化床内高温高压下
生成三氯氢硅
,将三氯氢硅再进一步歧化加氢反应生成二氯二氢硅,继而
生成硅
烷气。制得的硅烷气通入加有小颗粒硅粉的流化床反应炉内进行连续热分解反应,生成粒状多晶硅产品。因为在流化床反应炉内参与反应的硅表面积大,生产效率高,电耗低...
改良西门子法的生产工艺
答:
循环水站,变配电站,净化厂房等。(1)石英砂在电弧炉中冶炼提纯到98%并
生成
工业硅,其化学反应SiO2+C→Si+CO2↑(2)为了满足高纯度的需要,必须进一步提纯。把工业硅粉碎并用无水氯化氢(HCl)与之反应在一个流化床反应器中,生成拟溶解的
三氯氢硅
(SiHCl3)。其化学反应Si+HCl→SiHCl3+H2↑反应...
三氯氢硅
与水反应吗?
答:
SiHCl₃与水反应
生成
二氧化硅、盐酸和氢气。化学方程式为:SiHCl₃ + 2H₂O =SiO₂ +
3
HCl + H₂。SiHCl₃在与水的反应过程中,同时释放出大量的热并产生H₂,当大量的SiHCl₃与水在空气中反应时会剧烈燃烧,甚至有爆炸的危险,除SiHCl3自身的...
三氯氧磷和
三氯氢硅
反应
答:
不反应。三氯氧磷和羟基以及酚羟基的反应,而
三氯氢硅
,化学式为SiHCl3,不含有羟基以及酚羟基,所以不反应。三氯氧磷是一种工业化工原料,为无色透明的发烟液体。无色透明的带刺激性臭味和蒜味的液体,在潮湿空气中剧烈发烟,与水反应水解成磷酸和氯化氢,会进一步
生成
HP2O4Cl3。
三氯氢硅
常见的工业制品是什么
答:
→CH3CH2SiCl3 在氢化铝锂、氢化硼锂存在条件下,SiHCl3可被还原为硅烷。容器中的液态SiHCl3当容器受到强烈撞击时会着火。可溶解于苯、醚等。无水状态下三氯硅烷对铁和不锈钢不腐蚀,但是在有水分存在时腐蚀大部分金属。在高温条件下,
三氯氢硅
能被氢气还原
生成硅
SiHCl3 +H2==高温=Si +3HCl ...
联轴节的工艺过程
答:
第一,粗车:粗车零件外圆;第二,热处理;第三,精车:用工装固定零件加工内外圆;第四,拉花键;第五,焊接;第六,时效处理:600℃以上高温时效,去除应力;第七:精铣:在零件断面铣出固定槽;第八,攻螺纹:去毛刺,加工螺纹;第九,精磨:工装卡口定位,精磨外圆到设计尺寸;第十,抛光...
为什么
三氯
化硅和氢气在高温中反应
生成硅
单质和氯化
氢
,硅单质不加沉淀...
答:
因为这个反应在实际工业生产时是使用化学气相沉积法(CVD) 。而CVD中需要有基底(对反应气体有物理吸附作用),反应发生时,氢气和
三氯氢硅
的混合气在还原炉内通过基底,基底对三氯氢硅发生吸附,吸附后的三氯氢硅各化学键被削弱,从而被氢气还原,还原的工程中其他的三氯氢硅分子又被吸附到已经还原出来...
三氯氢硅
氢制备高纯硅的化学方程式
答:
(1)
三氯氢硅
的合成 第一步:由 制取粗硅 硅石(SiO2)和适量的 混合,并在 内加热至1600~1800℃ 可制得纯度为95%~99%的粗硅。其反应式如下:SiO2+3C=SiC+2CO(g)↑ 2SiC+SiO2=3Si+2CO(g)↑ 总反应式: SiO2+2C=Si+2CO(g)↑
生成
的硅由 底部放出,浇铸成锭。用此法生产...
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