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离子镀的优缺点
离子镀
溅射有哪些
优缺点
啊?
答:
优点:1.薄膜与衬底附着性好 2.致密性高 3.耐磨耐腐蚀性好 4.材料适用范围大
缺点:
1.有许多加工变量需要控制
2.通常很难在衬底表面获得均匀的离子轰击,导致薄膜特性发生变化 3.衬底可能加热过度 4.轰击气体可能会融入生长的薄膜中
离子镀
溅射靶材
有什么优缺点
吗?
答:
优点:1. 更高的膜层密度:使用离子镀可以进一步提高沉积的薄膜密度
,因为离子束可以帮助重新整理被沉积原子的位置,使其更紧密地封装。2.
膜层附着力优良
:由于离子有助于激活基片表面,沉积过程中形成的薄膜与基片之间的附着力更强。3. 微观结构控制:离子镀可以更精确地控制薄膜的微观结构,如晶体取向...
离子
束溅射镀膜设备
的优缺点
是什么? 更适合做什么薄膜材料?
答:
优点:
1、靶材粒子能量高(比热蒸发高出1个数量级),所制备膜层更致密,与基板结合力更高
;2、一般备有辅助离子源,
可以用来清洗基板,清洗效果好
;3、
易于制备熔点高的材料
;4、制备合金膜层,可以保证膜层材料比例与靶材相同;5、由于装有中和器,也可以用来制备绝缘膜层;缺点:1、一般镀膜速率较...
聚团离子束法
离子镀的
优点?
答:
一、镀层附着性能好,附着能力强、镀层不易脱落
。用离子镀设备进行离子镀时,蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能,基材的表面受到了离子的高速轰击,不断被清洗,不但
沉积速度快
,而且能够穿透工件表面,形成一种注入基体很深的扩散层,提高了基片表面的附着力。同时,
溅射也提高了基片表面的粗糙
...
离子
束溅射镀膜设备
的优缺点
是什么?
答:
4、可以使离子束精确聚焦和扫描
,在保持离子束特性不变的情况下,可以变换靶材和基片材料,并且可以独立控制离子束能量和电流。由于可以精确地控制离子束的能量、束流大小与束流方向,而且溅射出的原子可以不经过碰撞过程而直接沉积薄膜,因而离子束溅射方法很适合于作为一种薄膜沉积的研究手段。4.离子束溅射...
多弧
离子镀的
优点
答:
(1)从阴极直接产生等
离子
体,不用熔池,阴极靶可根据工件形状在任意方向布置,使夹具大为简化。(2)入射粒子能量高,膜的致密度高,强度和耐久性好,附着强度好。(3)离化率高,一般可达60%~80%。(4)从应用的角度讲,其突出优点是蒸
镀
速率快。
离子渗离子注入和
离子镀
膜表面技术的区别
答:
它与基体之间不存在剥落问题,离子注入后无需再进行机械加工和热处理。离子镀不但密度最高、晶粒最小,只是离子披覆最大的
缺点
是基板必需是导电材料,并且镀膜时基板的温度会升高到摄氏几百度,上述的缺点使
离子镀的
应用受到很大的限制。
离子镀的
特点
答:
离子镀的
作用过程如下:蒸发源接阳极,工件接阴极,当通以三至五千伏高压直流电以后,蒸发源与工件之间产生弧光放电。由于真空罩内充有惰性氩气,在放电电场作用下部分氩气被电离,从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引,猛烈地轰击工件表面,致使工件表层粒子和脏物被轰...
常见的
离子镀
技术
答:
使用低至数百伏的加速电压,离化和离子加速可以独立控制,使得反应性
离子镀
成为可能。HCD的特点在于对基材温升影响小,但可能需要额外加热;其离化效率高,适合多种膜层的制备,电子束斑大,适应性强。多弧离子镀 多弧离子镀则是利用真空弧光放电,阴极表面形成无数微小弧光点,因此得名。这项技术可...
光学镀膜“真空溅射”和“
离子镀
”工作方法
答:
这些离子被加速并引导到基板上,形成薄膜。
离子镀
可以制备出具有高密度、低应力和高抗蚀性的薄膜,特别适用于制备高反射镜和防反射膜等高性能光学膜。需要注意的是,这两种技术都需要精密的控制和优化,包括控制真空环境、离子源的能量、目标材料的温度等,以达到所需的薄膜性能。
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