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全息光刻胶
光刻胶
的作用
答:
光刻胶
是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist,又翻译为抗蚀剂、
光阻
等。光刻胶的作用就是作为抗刻蚀层保护衬底表面。光刻胶只是一种形象的说法,因为光刻胶从外观上呈现为胶状液体。光刻胶通常是以薄膜形式...
全息
底片在显影时,显影时间与哪些因素无关?
答:
全息
底片在显影时,显影时间与显影液温度无关。显影的时间取决于
光刻胶
类型、胶厚、曝光波长、烘烤温度和显影的工序,对膜厚小于2um显影时间不大于2min,对于浸没或搅动显影的时间范围在20-60s,不要超过120s。膜厚超过10um的胶层需要2-10min,膜厚达到100um的胶厚,显影时间超过60min,更密集的喷淋...
光刻胶
属于什么板块
答:
光刻胶
属于半导体板块。光刻胶是电子领域微细图形加工关键材料之一,是由感光树脂、增感剂和溶剂等主要成分组成的对光敏感的混合液体。在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射下,其溶解度发生变化,经适当溶剂处理,溶去可溶性部分,最终得到所需图像。按显示效果分类,光刻胶可分为正性光刻...
光栅立体印刷与
全息
立体印刷的原理有什么区别
答:
彩虹
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图像的拍摄是根据光的衍射特性得到的。它的制作是通过放置
光刻胶
感光板经过曝光、显影、定影等处理而得到。
全息
影像技术的组成种类
答:
压印复制,通常是在透明塑料片上利用金属模板进行热压以得到复制的
全息
显示图像。这种模压式全息显示图像既可制成透射式,亦可将其表面镀以高反射率金属膜,使其变成反射式。模压复制技术涉及到
光刻胶
母版制作、电铸及全息模压技术,是全息显示技术中难度最大的一种技术,它属于高层次的全息显示技术。模压式全息显示图像的...
高福华学术文章
答:
对于厚膜
光刻胶
的衍射成像场的分析和模拟,他于2005年在Optics Communications第244卷的123-130页进行了深入探讨,利用了角谱理论。2003年,高福华的贡献扩展到了多重分数傅里叶变换
全息
学,他分别在Journal of Modern Optics第50卷的1637-1647页和Optics Communications第215卷的53-59页发表了相关论文。...
外量子效率的定义
答:
当光子入射到光敏器材的表面时,部分光子会激发光敏材料产生电子空穴对,形成电流,此时产生的电子与所有入射的光子数之比称为 外量子效率(External Quantum Efficiency, EQE)
光信息科学与技术的应用领域
答:
应用领域主要有:在半导体光电子材料方面:在中国,用于集成电路(IC)和太阳能电池单晶硅(Si)年产量约为400吨。用于光电子器件的GaAs单晶、用于LED和LD的InP单晶和用于红、绿色LED的GaP芯片材料已实用化。用于蓝光LD和蓝、绿光LED和GaN、SiC等宽禁带半导体材料正在研发中。在激光晶体材料方面:华北光电...
光电材料研究生能从事什么工作
答:
[backcolor=rgb(239, 255, 255)][font=Tahoma, Helvetica, SimSun, sans-serif][size=12px]此外,掩膜版、背光源、取向剂、封接胶、
光刻胶
以及其他LCD相关材料的国内自给率有了很大的提高。即不完全统计,从事这方面生产的企业有7家,实现产值1.69亿元。[/size][/font][/backcolor][backcolor=rgb(239, 255...
日本的科技实力仅次于美国,为什么仍然没有高端芯片呢?
答:
日本是芯片的 科技 先驱,被美国打残了,现在躲着芯片生产,封装的材料领域,而且技术领先优势很大,单单一个
光刻胶
就把韩国修理的哇哇叫。本来日本半导体是吊打美国的,但是美国疯狂制裁日本以后,并且把日本半导体的中坚力量东芝搞废了。造出来一个完整的芯片,不是只靠一项技术能完成的,从人,硬件...
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